孙女士
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- 职位介绍
- 职责描述： 1. 压电微镜器件设计与规格定义 • 基于AlN/AlScN薄膜压电MEMS平台，负责单轴或双轴微镜的器件架构设计，包括镜面、压电驱动结构、弹性铰链、支撑梁、锚点及限位结构。 • 根据应用需求选择准静态、谐振或混合扫描架构，并将系统需求分解为镜面尺寸、偏转角度、谐振频率、响应时间、镜面平整度、驱动电压、功耗、扫描线性度、轴间串扰及温漂等器件指标。 • 优化压电层、电极及结构层设计，开展参数优化、公差分析和设计裕量评估。 • 输出器件设计规范、版图要求及Tape-out文件。 2. 多物理场仿真与模型校准 • 使用COMSOL、ANSYS或CoventorWare开展压电—电场—结构耦合、模态、谐响应、瞬态动力学、热应力及机械冲击仿真。 • 分析材料参数、残余应力、结构尺寸、工艺偏差及封装边界条件对器件性能的影响。 • 评估镜面动态变形、非目标模态、轴间耦合、机械非线性、残余振动及外部振动敏感性。 • 与光学团队开展光机联合分析，评估镜面曲率、动态变形和角度误差对光束质量及系统性能的影响。 • 对比仿真与实测结果，校准材料参数及边界条件，提高模型预测准确性。 3. 器件表征、测试开发与问题分析 • 制定器件测试方案，表征偏转角度、频率响应、响应时间、扫描线性度、重复性、迟滞、残余振动、镜面平整度、温漂、功耗及压电特性。 • 使用激光多普勒测振仪、白光干涉仪、高速相机、光束分析仪、探针台及阻抗分析仪等设备开展测试。 • 根据芯片级测试需求设计测试PCB、驱动接口、光学测试架及相关治具，并使用Python或MATLAB开展自动化测试和数据分析。 • 结合仿真、测试及工艺数据，分析偏转角度不足、频率偏移、镜面翘曲、轴间串扰、压电性能退化、结构失效及温漂异常等问题，推动设计改进和验证闭 任职要求： Required Qualifications 任职要求 1. 微电子、机械工程、MEMS、应用物理、光学工程、精密仪器、材料科学或相关专业硕士及以上学历。 2. 具备3年以上MEMS器件设计、仿真或表征经验；具有高度相关研究经验的博士可适当放宽工作年限要求。 3. 具备扎实的MEMS器件基础，熟悉压电效应、弹性力学、结构振动、薄膜残余应力及热机械效应，并具备基本的自由空间光学知识。 4. 熟练使用至少一种有限元仿真工具，如COMSOL、ANSYS或CoventorWare，能够独立完成器件建模、结果分析及仿真—实测校准。 5. 具备MEMS器件表征和问题分析能力，能够独立制定实验方案、搭建测试环境并定位器件性能异常。 6. 了解MEMS版图及晶圆加工基本流程，包括薄膜沉积、电极图形化、刻蚀、结构释放、晶圆键合及封装等。 7. 能够使用Python或MATLAB进行数据分析和测试自动化。 8. 具备良好的英文技术读写、沟通及跨团队协作能力。 Preferred Qualifications 优先条件 • 具有压电式MEMS微镜、压电光学扫描器或其他压电MEMS致动器的实际开发经验。 • 具有AlN/AlScN压电薄膜器件，或单轴、双轴、准静态及谐振扫描微镜的项目经验。 • 具有镜面平整度、微小角度、高速动态响应或光机耦合测试平台的搭建经验。 • 具有MEMS Tape-out、压电薄膜工艺、晶圆键合、可靠性验证、DOE或NPI产品导入经验。 • 拥有压电MEMS致动器、微镜或光束扫描相关论文、专利或产品开发成果。
- 其他信息
- 行业要求：全部行业
公司简介
武汉敏声新技术有限公司（MEMSonics）由武汉大学孙成亮教授联合14名国际知名业内专家于2019年共同创立，公司致力于无线射频前端滤波器制造及其产品应用方案的实施，公司产品同时覆盖压电式麦克风以及超声传感器等，是一家集设计、生产、销售为一体的IDM/CIDM公司。
公司处于半导体领域中急需国产替代的射频滤波器领域。公司自有知识产权的无线射频前端体声波滤波器（BAW）属于射频滤波器中技术门槛和价值量高的产品。公司具备国际前沿的技术优势、知识产权优势和正向研发IP的全面技术实力，目前公司团队已申请发明专利143余项，其中授权43项，涵盖结构设计、工艺制程、电子封装、单片集成等设计和制造方面。
公司创始人孙成亮教授是武汉大学A类学科带头人、二级教授、博导、省级特聘专家、国家重点研发计划首席科学家，迄今为止已有22年压电声学元器件的设计与制程经验。
公司硕士及以上学历人员占比为58%，研发人员占比64%。在BAW滤波器领域，拥有国内BAW滤波器领域最完整的IDM团队，包括知名的芯片设计应用专家与工艺制程专家。核心人员涵盖设计、材料、制程、封装、测试等各领域，使得公司具备设计研发、工艺制程、产线建设与运营、市场营销的综合实力。
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