涂层技术总负责人 75-85k
上海 5-10年 本科 招1人 8月14日更新
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职位介绍
任职要求: 1. 材料科学与工程、表面工程、无机非金属材料等相关专业,本科及以上学历 (硕士优先);热喷涂方向 2. 8 年以上热喷涂行业经验,其中至少 3 年大气等离子喷涂(APS)陶瓷涂层的 工业量产经验——纯实验室/纯论文经历不符合要求 3. 亲手做过氧化钇或同类高熔点陶瓷(氧化铝、氧化锆、钇基复合)喷涂工艺 开发,能现场复述完整参数逻辑(功率/送粉率/喷距/气体配比如何影响孔 隙率与结合强度) 4. 有半导体设备零部件涂层或显示面板熔射行业背景;其中半导体背景的孔隙 率实绩须达到<1%量级(面板行业通行的 1-3%孔隙率经验不足以直接胜任) 5. 熟悉涂层检测与失效分析:金相孔隙率、拉伸结合强度(ASTM C633)、XRD 相分析、SEM、粗糙度、ICP-MS/GDMS 杂质概念 6. 能编写 SOP 与专利,具备技术文档体系化能力 满足以下条件优先录用: 1. 经历过半导体客户认证全流程(送样→失效分析→8D→量产放行),熟悉中 微/北方华创/迈为等设备商或晶圆厂评审风格 2. 操作过进口工业级 APS 系统(Oerlikon Metco、Praxair/Linde、GTV 等 80kW 以上平台)并有机器人走枪编程经验 3. 主导过喷涂产线从 0 到 1 的规划建设(设备选型、防爆洁净场地、验收爬坡) 4. 有喷涂造粒粉评价或开发经验(粉-喷匹配视角),或钇基复合粉(YOF、掺 锆氧化钇)认知 5. 有发明专利记录、海外(日韩)半导体涂层企业或国内头部熔射企业工作经 历 一、工艺开发(第 1 优先级) 1. 主导氧化钇 APS 等离子喷涂工艺开发:建立功率、送粉率、喷距、走枪路径、 Ar/H₂配比五要素参数包,通过 DOE 方法锁定工艺窗口,实现涂层厚度 200±15μm、孔隙率<1%(趋近 0%)、结合强度≥20MPa、研磨后 Ra≤0.5μm 的验收标准; 2. 负责样件阶段的外部打样管理:评审第三方熔射服务商与高校共享设备的打 样方案,现场盯样、回收并归档全部喷涂参数记录,将外部打样数据转化为 舜锋自有工艺资产; 3. 主导粉体选型与粉-喷匹配评审(粉喷分线模式下的喷端职责):评审外购粉 的流动性、粒径分布、杂质报告,建立来料检验标准与合格粉清单; 4. 建立喷涂缺陷图谱(“炸粉/熔不透”、裂纹、剥落、夹杂、色差)与真因分 析-纠正预防闭环。 二、产线建设(第 2 优先级,中试阶段启动) 5. 主导中试线/量产线设备选型与技术谈判:国产或进口 APS 整机、机器人走 枪系统、喷砂、封孔、研磨、检测配套;输出设备技术规格书并参与商务谈 判; 6. 牵头产线工艺布局设计:配合场地方完成氢气防爆、洁净间(ISO 6 级)、纯 水/废气粉回收等技术条件确认; 7. 编写全套工艺文件:SOP、作业指导书、检验标准、设备点检保养规程,建 立批次追溯体系。 三 客户认证与量产(第 3 优先级) 8. 支撑客户认证:对接客户的技术评审,主导送样技术答辩、失效分析回复与 8D 报告,推动涂层件通过客户验证进入合格供应商名录; 9. 负责量产爬坡:将沉积效率稳定在 43%以上、一次合格率≥90%,建立 SPC 过程控制,持续降本(粉耗、返工率、节拍)。 四 团队与知识产权 10. 组建并培养喷涂工艺团队;与高校产学研合作中担任技术对接人,把高校成 果翻译为产线语言;主导专利布局(参数包、工装、复合喂料等方向,入职 首年申请发明专利不少于 3 项)。 任职要求: 1. 材料科学与工程、表面工程、无机非金属材料等相关专业,本科及以上学历 (硕士优先);热喷涂方向 2. 8 年以上热喷涂行业经验,其中至少 3 年大气等离子喷涂(APS)陶瓷涂层的 工业量产经验——纯实验室/纯论文经历不符合要求 3. 亲手做过氧化钇或同类高熔点陶瓷(氧化铝、氧化锆、钇基复合)喷涂工艺 开发,能现场复述完整参数逻辑(功率/送粉率/喷距/气体配比如何影响孔 隙率与结合强度) 4. 有半导体设备零部件涂层或显示面板熔射行业背景;其中半导体背景的孔隙 率实绩须达到<1%量级(面板行业通行的 1-3%孔隙率经验不足以直接胜任) 5. 熟悉涂层检测与失效分析:金相孔隙率、拉伸结合强度(ASTM C633)、XRD 相分析、SEM、粗糙度、ICP-MS/GDMS 杂质概念 6. 能编写 SOP 与专利,具备技术文档体系化能力
其他信息
语言要求:不限
行业要求:机械/设备

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更新时间:2026-08-14