半导体研磨液(CMP Slurry)工艺高级工程师 13-18k·15薪
上海-松江区 5-10年 统招本科 招1人 8月7日更新
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周先生 一周前在线 已认证
资深顾问(SC) · 上海仁拓商务咨询中心(有限合伙)
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职位介绍
1. 研磨液工艺开发与参数优化 负责STI、W、ILD,poly等体系研磨液的工艺路线设计与量产工艺开发。 建立配制、分散、pH控制、过滤、输送等关键工艺参数窗口,制定工艺SOP。 使用DOE、SPC等方法优化工艺,提升产品核能指标性能如批次间/内稳定性、LPC等。 2. CMP缺陷与工艺异常攻关 解决现场典型缺陷:划伤、颗粒污染、微坑、碟形效应、腐蚀、均匀性差等。 建立失效分析路径,从研磨液配方—工艺参数—设备状态—清洗流程定位根因并闭环改善。 3. 量产工艺与制程质量管控 制定研磨液量产工艺控制点:粒径、黏度、pH、Zeta电位、固含量、杂质离子等。 主导量产良率提升、成本优化、产能爬坡,处理生产工艺异常。 参与PFMEA、控制计划、工艺变更(ECN)管理,保证工艺稳定可追溯。 4. 原料与耗材工艺验证 对磨料(SiO₂/CeO₂/Al₂O₃)、分散剂、络合剂、氧化剂、缓蚀剂等进行工艺适用性验证。 建立原料工艺准入标准,评估对CMP抛光效果的影响。 5. 项目与团队管理 主导工艺开发、客户导入、量产改善类项目,管控进度、成本、风险。 指导初级工艺工程师 任职要求: 本科以上学历,化学相关专业,3-5年相关工作经验; 第一年可能base合肥
其他信息
语言要求:不限
行业要求:化工,电子/半导体/集成电路

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更新时间:2026-08-09