CIM(SiC或12寸Si晶圆厂工作经验) 15-30k·14薪
深圳 5-10年 统招本科 招1人 8月14日更新
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职位介绍
CIM工程师 base:重庆 要求:晶圆厂家甲方经验 薪资:20-30k*13薪 职责描述: 负责或参与CIM各系统的设计、搭建、测试、上线等工作以及后续的运维优化、Issue处理、二次开发。 1、完成系统的需求调研、设计、开发、测试等工作,保障各系统按计划如期顺利上线; 2、维护系统稳定运营,完成定期巡检,快速处理系统与生产过程中出现的各类问题,维护系统各项功能正常,保障系统稼动率; 3、优化系统与功能逻辑,解决系统Issue,提高系统运行效率,完成系统的软硬件更新、升级等需求,推进CIM系统有效使用; 4、检讨业务需求,与业务部门充分沟通,检讨并设计系统化解决方案,开发相应系统功能或报表,满足用户生产需求; 5、协助完成工厂各类项目的方案与目标确立、制定项目日程、按节点完成项目推进、实施与落地,确保项目顺利结案; 6、撰写各类技术文档、方案报告、改善提案、功能手册、项目方案等,实现科室智力资本积累与人员培养 任职要求: 1、全日制本科及以上学历,计算机、软件工程、自动化等相关专业; 2、5年以上工作经验,有SiC或12寸Si晶圆厂工作经验; 3、具有计算机基础知识和基本应用能力,熟悉Java、JavaScript等系统语言和开发工具,掌握一定SQL能力与数据库、服务器知识,能够参与系统的软件开发。 WET 湿法清洗设备工程师 薪资:15000-25000 元 / 月,14 薪 工作职责 1.负责 8 英寸 SiC 产线湿法清洗(WET)设备选型、进厂安装、调试、量产爬坡全流程,管控薄膜损耗、片内 / 片间均匀性、颗粒、金属残留、水痕、腐蚀缺陷、晶圆翘曲等关键工艺指标; 2.搭建各类湿法清洗机台预防性保养 PM 体系:保养周期制定、传动部件 / 腔体清洁、药液管路维护、精密配件更换、流量压力校准及异常处置; 3.24 小时设备应急抢修,解决机械传动、电气、真空、温控、酸碱药液管路、阀门泵浦、过滤系统软硬件故障,建立故障案例库; 4.设备备件全生命周期管理,设定安全库存避免停机;推进核心耗材、高价值备件国产化替代与二供导入,通过能耗 / 药耗数据分析落地降本方案; 5.编制设备 OI、SOP、PM 点检表、故障处理指南、拆机装机规范等全套标准化文件; 6.输出设备改善报告、国产化验证报告、技术转移文档,可撰写专利交底书;带教新人,培训技术员基础点检与简易故障处理能力。 任职资格 1.全日制本科及以上学历; 2.机械、电气、自动化、电子、化工类相关专业; 3.至少 3 年半导体 Fab WET 湿法清洗设备专职工程师实操经验。 WET 设备工程师 薪资范围:15000-25000 元 / 月 * 14 薪 工作职责 负责 8 寸 SIC 温法清洗 (WET) 工艺设备的选型、安装、调试、投产,以及投产后的维护保养、故排查与设备整体利用率的优化,重点保漳设备的工艺表现如薄膜损耗控制、片内和片间均的匀性、 表面颗粒、金属残留、水痕、腐蚀缺陷及晶回翘曲波动等关键指标。 1、制定井搭地 8 寸 Sc 温法清流设务 (Pe dkan、pod deanpRsdip、sodpet dean, Mealden、Bad (adtedean、spinsonute、Wiher1egve) 的预防性进护保养 (PM), 包会保养周照、传送部牛清洁、植成清洁、药波首路保、精密部牛要换、涉量压力发 准、其他异常处理等工作。 2、负惠温法清法设备 24 小时应急维修,快速定位并解决机械传动、电气控制、真空压力、温控加热、冷却值坏、酩碱药液营路、阀门泵体、过海系统等硬件故障和软件故障,完超记录雄修日志,搭建设备故连案例库与复曲机制。 3、统筹设备关键零部件、消耗品、易损备件的生命周期管理,制定安全库存标准,杜绝缺件停机。 4、推进高价值备件、核心耗材的国产化替代与第二供应商导入验证;统计分析设备能耗、药耗、备件损耗数据,落地节能降本、降损增效改善方案。 5. 负表编写、修订湿法设备全套标准文件,包含设备 OI、SOP、PM 点检清单、设备异常故障处理指南、拆机装机规范、校准作业标准。 6、负责撰导设备改善总结、异常分析报告、技术转移文档、国产化验证报告及专利交底书;常态化培训助理设备工程师、产线技术员,学握日常点检、基础保养及简单故障排除技能,夯实设备运维团队能力。 任职资榨 1、全日制本科及以上学历; 2、电子类,机械类,电气类、自动化类、化学类等相关专业; 3、半导体 WET 设备工程师相关工作 3 年以上。 WET工艺部长/科长 工作职责 负责8寸SiC湿法清洗(WET)工艺的Recipe开发、调试与优化,重点解决薄膜损耗控制、片内和片间的均匀性、表面颗粒、金属残留、水痕、腐蚀缺陷及晶圆翘曲波动问题。 1、负责8寸SiC湿法清洗工艺(Pre clean、Post clean、PR strip、Solvent clean、Metal clean、Backside clean、Spin scrubber、Wafer recycle等)的Recipe开发、调试与优化,重点解决薄膜损耗控制、片内和片间的均匀性、表面颗粒、金属残留、水痕、腐蚀缺陷及晶圆翘曲波动问题。 2、监控日常生产工艺数据(膜厚损失、颗粒数量、金属离子浓度、表面缺陷、药液浓度、温度、浸泡和漂洗时间等),对SPC失控、工艺漂移、良率波动、批量异常进行快速响应、根因分析与闭环改善。 3、维护湿法工艺全套文件体系(SOP、OCAP、FMEA、Control Plan、工艺规格书、异常处置规范),定期更新版本并对产线操作人员、技术员开展标准化工艺培训。 4、持续降低湿法工艺缺陷与常规缺陷密度,提升晶圆片内、片间、批次间工艺一致性与稳定性。参与公司内外部质量审核、客户稽核,落实所有不符合项整改与预防措施。 5、参与新湿法清洗设备、新工艺化学品、新型耗材的导入验收,完成工艺能力验证、DOE实验、工艺窗口确认,制定标准化工艺释放标准与量产放行规范。 6、负责撰写工艺改善总结、异常分析报告、技术转移文档、国产化验证报告及专利交底书;负责助理工程师、生产技术员的技术带教与技能赋能,搭建团队技术梯队,完善工艺知识沉淀。 任职资格 1、全日制本科及以上学历; 2、化学类、材料类、化工类、微电子类、半导体类等相关专业; 3、半导体WET工艺相关工作8年以上。
其他信息
语言要求:不限
行业要求:电子/半导体/集成电路

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更新时间:2026-08-16